专家信息:
王正宝,1966年1月生,江苏丹阳人,理学博士,浙江大学化学工程与生物工程学系教授,博士生导师。
学习及工作经历:
1.1984年09月-1988年07月 浙江大学化学系物理化学专业理学,学士,连续三年获浙江大学一等奖学金,1988年毕业时获“浙江大学竺可桢奖”;
2.1988年09月-1993年10月 中国科学院大连化学物理研究所物理化学、催化化学专业,理学博士(直接攻博);
3.1993年12月-1996年11月 东京工业大学理学部化学科,博士后;
4.1996年12月-1999年02月 北陆先端科学技術大学院大学材料科学研究科文部省教官(助手);
5.1999年03月-2001年11月 美国加州大学河滨分校 (UCR) 化学与环境工程系访问学者;
6.2001年12月-2006年03月 旭化成株式会社中央技术研究所无机材料组主任研究员;
7.2006年04月-2006年12月 旭化成Chemicals株式会社化学技术研究所催化开发部主任研究员;
8.2006年12月至今 浙江大学化工系教授。
学术活动:
1. 2007年8月在北京参加第13届国际分子筛大会;
2. 2007年11月在杭州参加第4届全国化工年会;
3. 2007年12月在四川参加第四届中日化工会议(新材料分会主席);
4. 2008年3月在天津参加第六届全国膜会议(口头报告);
5. 2008年10月在南京参加第14届全国催化学术会议;
6. 2008年11月在金华参加第14届全国分子筛年会(口头报告);
7. 2008年11月在南京工业大学参加全国第三届化工新材料学术研讨会(Kenote报告);
8. 2009年7月在西安参加第五届中日化工研讨会(Kenote报告);
9. 2009年10月在洛阳参加第15届全国分子筛年会(口头报告和墙报);
10. 2009年10月在金华参加第12届全国青年催化会议(口头报告和墙报);
11. 2009年11月在美国的Nashville参加AIChE年会(口头报告)。
科学研究:
研究方向:
1.目前主要从事分子筛膜的制备与应用研究;
2.在UCR期间,主要进行了分子筛薄膜(绝缘膜和防腐膜等)的合成和应用研究;
3.在旭化成期间,先研究了分子筛绝缘薄膜,然后又研究开发了分子筛脱水分离膜。
承担的科研项目情况:
1. 现正在承担国家基金委项目、教育部博士点基金项目以及中石化等横向基金的研究课题;
2. 沸石分子筛渗透汽化膜制备与应用研究, 浙江省钱江人才项目, J20080444, 2008-01-01, 2009-12-31;
3. 变压吸附法及膜法回收氯甲烷技术研究, 企事业单位委托科技项目, H20080093, 2008-01-07;
4. 高水热稳定性沸石分子筛催化剂的研究, 企事业单位委托科技项目, H20081790, 2008-08-01;
5. 复合支撑体法制备沸石分子筛膜, 国家自然科学基金项目, J20080765, 2009-01-01。
研究成果:
在UCR期间,主要进行了分子筛薄膜(绝缘膜和防腐膜等)的合成和应用研究。主要成就包括:成功地合成了有取向性MFI薄膜(国际领先),并探讨了其在绝缘薄膜(Low-k film)方面的应用(国际首例);用Spin-on法制备了分子筛薄膜, 并考察了其在绝缘膜方面的应用(国际首创);在铝片上合成的MFI分子筛膜可用作铝防腐膜;探讨了MFI分子筛微粒子的应用。
在旭化成期间,先研究了分子筛绝缘薄膜,然后又研究开发了分子筛脱水分离膜。研制的分子筛绝缘膜的介电常数可达到2.0左右,且不需要另做疏水化处理,分离膜的成膜率几乎达100%,分离性能比已上市的膜高出好几倍。该成果已转交事业部进行中试放大。在旭化成化学公司从事催化裂解制丙烯催化剂及工艺的研究开发。
论文专著:
出版专著:
普通地理学原理附图(47套) 卡列斯尼克著 王正宝等译 高等教育出版社
发表论文:
1. Qinqin Ge, Zhengbao Wang*, Yushan Yan, "High-performance zeolite NaA membranes on polymer-zeolite composite hollow fiber supports", J. Am. Chem. Soc. 131 (47), 17056-17057 (2009).
2. Zhengbao Wang*, Qinqin Ge, Jia Shao, Yushan Yan, "High performance zeolite LTA pervaporation membranes on ceramic hollow fibers by dipcoating-wiping seed deposition", J. Am. Chem. Soc. 131(20), 6910-6911 (2009) (http://pubs.acs.org/articlesonrequest/AOR-Uq2aVCVxF7Ts74rE5DAq).
3. A. Mitra, T. Cao, H. Wang, Z. B. Wang, L. Huang, S. Li, Z. Li, Y. Yan. “Synthesis and evaluation of pure-silica-zeolite BEA as low dielectric constant material for microprocessors”, Ind. Eng. Chem. Res. 43, 2946-2949 (2004).
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7. Limin Huang, Zhengbao Wang, Huanting Wang, Anupam Mitra, Yushan Yan, “Polyaniline nanostructures by liquid-crystal template electropolymerization”, J. Mater. Chem. 12:388-391(2002).
8. Limin Huang, Zhengbao Wang, Huanting Wang, Anupam Mitra, and Yushan Yan, “Cuprite nanowires by electrodepositon from surfactant mesophases”, Chem. Mater. 14, 876-880 (2002).
9. Limin Huang, Huanting Wang, Zhengbao Wang, Anupam Mitra, Krassimir N. Bozhilov, and Yushan Yan, Nanowire arrays electrodeposited from liquid crystalline phases, Adv. Mater. 14,61-64 (2002).
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39. Z.B. Wang, T. Mizusaki, T. Sano, Y. Kawakami, "Baeyer-Villiger oxidation over HZSM-5 type zeolites", Bull. Chem. Soc. Jpn., Vol.70, 2567-2570 (1997)
40. T. Sano, H.Ikeya, T. Kasuno, Z.B. Wang, Y. Kawakami, K. Soga, "Influence of crystallinity of HZSM-5 zeolite on its dealumination rate", Zeolites, Vol.19, 80-86 (1997)
41. K. Yamada, A. Hayashi, Z.B. Wang, T. Sano, Y. Kawakami, H. Yanagishita, "Separation of CH3COOH/H2O mixture by pervaporation through silylated silicalite membrane", Membrane (Japanese), 22, 200-205 (1997).
42. S. Kurita, Z.B. Wang, T. Sano, Y. Kawakami, K. Uematsu, M. Sato, "Estimation of proton mobility in HZSM-5 type zeolite films by compex impedance method", Nippon Kagaku Kaishi, 456-460 (1997).
43. Z.B. Wang, A. Kamo, T. Yoneda, T. Komatsu, T. Yashima, "Isomerization of n-heptane over Pt-loaded zeolite beta catalysts", Appl. Catal. A: General, Vol.159, 119-132 (1997)
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发明专利:
已授权专利:
1. 王正宝,花畑 博之,层间绝缘用薄膜,授权日2009.8.28 (24363824),公开号2004-079592
2. Y. Yan, X. Cheng, Z. Wang 2003. Metal surfaces coated with molecular sieves for corrosion resistance. US Patent Application No. 09/745,852, May 17, 2000, U.S. Patent No. 6,521,198, February 18, 2003.
3. Y. Yan, Z. Wang, H. Wang 2003. Silica zeolite low-k dielectric thin films. Application No. 09/900,386. US Patent No. 6,573,131, June 3, 2003.
4. Y. Yan, Z. Wang, H. Wang 2003. Silica zeolite low-k dielectric thin films. Application No. 09/900,386. US Patent No. 6,630,696, October 7, 2003
申请中专利:
1. 王正宝,葛琴琴,李显明,一种分子筛复合膜,中国专利,申请号200910154118.9
2. 王正宝,李显明,一种微波加热合成取向性MFI型分子筛膜的方法,中国专利,申请号200910101819.6
3. 王正宝,葛琴琴,邵佳,浸涂-滚擦涂晶法合成分子筛膜的方法,中国专利,申请号200910098234.3,公开号CN101544379
4. 王正宝,佘慧玲,刘春杰,吴 涛,曹 阳,任不凡,郑 捷,由氯甲烷混合气体分离回收氯甲烷的方法,中国专利,申请号 200810120215.1,公开号 CN101343209
5. 花畑 博之,王正宝,层间绝缘用薄膜,日本专利,申请号2008-128470,公开号2009-219042
6. Shirataki Hironobu,王正宝,复合膜的制造方法,日本专利,申请号2005-377758,公开号2009-66462
7. Shirataki Hironobu,青木谦介,王正宝,分子筛复合膜及其制造方法,日本专利,申请号2006-220807,公开号2008-43864
8. Shirataki Hironobu,王正宝,青木谦介,清住嘉道,长谷川泰久,长濑多加子,水上富士夫,Pillipsite型分子筛膜及其制造方法,日本专利,申请号2006-143047,公开号2007-313390
9. Shirataki Hironobu,王正宝,青木谦介,清住嘉道,长谷川泰久,长濑多加子,水上富士夫,Merlinoite型分子筛膜及其制造方法,日本专利,申请号2006-143046,公开号2007-313389
10. Shirataki Hironobu,王正宝,青木谦介,复合膜及其制造方法,日本专利,申请号2006-117632,公开号2006-320896
11. Shirataki Hironobu,王正宝,青木谦介,大屋博义,复合膜,日本专利,申请号2005-71432,公开号2006-247616
12. Shirataki Hironobu,王正宝,大屋博义,复合膜,日本专利,申请号2005-45847,公开号2006-231123
13. 清住嘉道,长谷川泰久,长濑多加子,水上富士夫,王正宝,Shirataki Hironobu,Pillipsite型分子筛膜及其制造方法,日本专利,申请号2005-344634,公开号2006-176399
14. Shirataki Hironobu,王正宝,大屋博义,复合膜,日本专利,申请号2004-357659,公开号2006-159144
15. 清住嘉道,长谷川泰久,长濑多加子,水上富士夫,王正宝,Shirataki Hironobu,Merlinoite型分子筛膜及其制造方法,日本专利,申请号2004-345040,公开号2006-150239
16. 花畑 博之,王正宝,分子筛复合薄膜,日本专利,申请号2003-143922, 公开号2004-344755
17. 王正宝、花畑博之,反射防止膜用的多孔性Silica,日本专利,申请号2002-194202,公开号2004-37795
18. 王正宝、花畑博之,层间绝缘膜制造用涂布组成物,申请号2002-050160, 公开号2003-249495
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